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08-02
2018
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靶材制約著濺鍍薄膜的物理,力學(xué)性能,影響鍍膜質(zhì)量,因而要求靶材的制備應(yīng)滿(mǎn)足以下要求: 1、純度:要求雜質(zhì)含量低純度高,靶材的純度影響薄膜的均勻性,以純Al靶為例,純度越高,濺射Al膜的耐蝕性及電學(xué)、光學(xué)性能越好。
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濺射靶材是指通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類(lèi)型的鍍膜設(shè)備在適當(dāng)工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應(yīng)用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導(dǎo)體、磁記錄、平面顯示、太陽(yáng)能電池等眾多領(lǐng)域,不同領(lǐng)域需要的靶材各不相同。
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鎢靶材經(jīng)常作為物理氣相沉積用濺射靶材,在半導(dǎo)體領(lǐng)域用于制作柵電極、連接布線(xiàn)、擴(kuò)散阻擋層等。鎢靶材主要應(yīng)用于航天、稀土冶煉、電光源、化工設(shè)備、醫(yī)療器械、冶金機(jī)械、熔煉設(shè)備、石油、等領(lǐng)域。
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一項(xiàng)打破國(guó)外公司壟斷的關(guān)鍵技術(shù),一塊價(jià)值幾萬(wàn)美元的“金屬餅”,一件出廠便能影響到1000萬(wàn)輛汽車(chē)、1000萬(wàn)臺(tái)手機(jī)的產(chǎn)品,一個(gè)關(guān)乎國(guó)家安全的戰(zhàn)略產(chǎn)業(yè),一段扎根甬城12年的創(chuàng)業(yè)傳奇……
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光學(xué)鍍膜材料包括那些內(nèi)容?下面就簡(jiǎn)單的為大家介紹一下靶材的基本信息。 光學(xué)鍍膜,影響一面平面透鏡的透光度有許多成因。鏡面的粗糙度會(huì)造成入射光的漫射,降低鏡片的透光率
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濺射鍍膜就是最近發(fā)展起來(lái)的一種新的表面處理技術(shù)。表面處理技術(shù)能使材料的物理機(jī)械和化學(xué)性能得到提高,而濺射鍍膜比以往的真空鍍膜具有“高速、低溫”兩個(gè)顯著的特點(diǎn)。
2018-08-02 69次瀏覽08-02
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眾所同知,真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和商子濺射,那么,蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜有什么區(qū)別?不少新手朋友有這樣的疑問(wèn),下面我們就看看專(zhuān)家為我們做出的相關(guān)講解。
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